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半導體溫控系統主要由加熱循環系統、冷卻系統、控制系統、箱體等組成。加熱循環系統包括循環泵、電加熱器、膨脹容器、排氣閥、單向閥、熱電阻、循環管道等組成。冷卻系統包括油水換熱器、油油換熱器（部分設備）、冷卻水電磁閥、高溫電磁閥等組成?？刂葡到y采用PID控制技術，高清顯示屏，設有多項保護功能，確保設備安全運行。通過機組自身的加熱與冷卻，向外界輸送載熱流體，滿足工藝條件要求。

TCU溫度控制系統是一種集成了溫度傳感器、控制器和加熱/冷卻裝置的設備。它通過監測環境溫度并根據預設的溫度設定值自動調節加熱或冷卻裝置，以達到所需的溫度控制目標。

　高低溫一體循環機結合了高低溫控制技術與循環技術，能夠在溫度條件下，提供穩定的溫度環境，并且可以實時控制和調整溫度。這一設備廣泛應用于材料科學、生物醫學、化學物理等領域，為科研人員提供了有力的實驗條件支持。

晶圓生產完成后，需要對其進行各種參數的檢測，在檢測的過程中，需要在不同溫度下進行測試，晶圓測試用溫控設備（晶圓測試溫控系統）是高精度，高分辨率，高穩定性的控制設備。

高低溫循環溫控系統，高低溫循環系統主要由加熱循環系統、冷卻系統、控制系統、箱體等組成。加熱循環系統包括循環泵、電加熱器、膨脹容器、排氣閥、單向閥、熱電阻、循環管道等組成。

高低溫冷卻液測試機具有熱力學溫度控制系統，一系列功能滿足不同的應用要求，帶有彩色觸摸屏，簡潔的導航菜單，重要參數一目了然，以圖線方式顯示實時的溫度變化，配有泵技術，優化熱傳遞。

反應釜溫度控制系統(反應釜溫控系統)采用磁耦合高溫循環泵，杜絕系統泄漏風險、密封好，流速大，確保設備能更快為外部系統換熱。配備人性化7英寸真彩LCD觸摸屏，良好的人機交互界面，直觀顯示本機參數及外部控溫參數。